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Shinkuu MSP-1S 是一款專為掃描電鏡（SEM）樣品制備設(shè)計(jì)的臺(tái)式磁控濺射儀。它通過磁控濺射技術(shù)在非導(dǎo)電或弱導(dǎo)電樣品表面沉積一層納米級(jí)金屬薄膜（如金、鉑等），解決樣品在電鏡下的荷電問題，并增強(qiáng)二次電子發(fā)射率，從而獲得更清晰、真實(shí)的微觀結(jié)構(gòu)圖像。
核心設(shè)計(jì)理念：操作簡(jiǎn)便、緊湊便攜、樣品友好。其浮動(dòng)式樣品臺(tái)和磁控管靶電極的設(shè)計(jì)，在保證鍍膜效果的同時(shí)，最大限度地減少了對(duì)敏感樣品的潛在損傷。
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 典型樣品 | 鍍膜目標(biāo) | 推薦靶材 | 注意事項(xiàng) |
|---|---|---|---|---|
| 材料科學(xué) | 高分子聚合物、陶瓷、纖維、復(fù)合材料、粉末 | 消除荷電，觀察相分布、斷面結(jié)構(gòu)、孔隙率 | Au-Pd, Pt-Pd | 對(duì)于多孔或復(fù)雜形狀樣品，需適當(dāng)延長(zhǎng)鍍膜時(shí)間并旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，確保覆蓋均勻。 |
| 生命科學(xué) | 動(dòng)物組織、植物葉片、細(xì)菌、細(xì)胞、昆蟲 | 防止樣品灼燒變形，保持原始形貌 | Au, Au-Pd | 強(qiáng)烈推薦使用浮動(dòng)樣品臺(tái)模式，以保護(hù)脆弱的生物結(jié)構(gòu)免受電子束損傷。 |
| 半導(dǎo)體與電子 | 芯片截面、封裝材料、絕緣層、元器件 | 提供導(dǎo)電通路，進(jìn)行失效分析和質(zhì)量控制 | Pt, Au-Pd | 對(duì)于需要高分辨率的納米結(jié)構(gòu)，建議使用顆粒更細(xì)的Pt靶。 |
| 地質(zhì)與考古 | 巖石礦物、微小化石、花粉、文物碎片 | 觀察表面微形貌和晶體結(jié)構(gòu) | Au-Pd | 對(duì)于表面不平整的樣品，可采用傾斜旋轉(zhuǎn)的方式鍍膜。 |
標(biāo)準(zhǔn)操作流程：
樣品準(zhǔn)備：確保樣品干燥、清潔、尺寸適合樣品臺(tái)（Φ<120mm）。
放置樣品：將樣品置于浮動(dòng)樣品臺(tái)上。
設(shè)置參數(shù)：核心參數(shù)為濺射電流與濺射時(shí)間。
開始鍍膜：關(guān)閉艙門，啟動(dòng)設(shè)備，過程全自動(dòng)。
取出樣品：完成后，取出樣品立即進(jìn)行電鏡觀察。
參數(shù)優(yōu)化建議：
鍍膜厚度控制：鍍膜厚度由濺射電流和時(shí)間共同決定。
常規(guī)觀察（500 - 20,000倍）：中等電流，時(shí)間約60-120秒，形成約5-10nm薄膜。
高倍率觀察（>30,000倍）：使用Pt或Pt-Pd靶，采用較低電流和稍長(zhǎng)時(shí)間（如90-180秒），以獲得更薄、更細(xì)膩的鍍層，避免掩蓋樣品細(xì)節(jié)。
靶材選擇策略：
金（Au）：通用快速，適合教學(xué)、常規(guī)檢測(cè)和中低倍率觀察。
金-鈀（Au-Pd）：標(biāo)準(zhǔn)均衡，顆粒更細(xì)，適用倍率范圍廣（1萬-5萬倍），是大多數(shù)情況下的穩(wěn)妥選擇。
鉑（Pt）/鉑-鈀（Pt-Pd）：高分辨選擇，顆粒最細(xì)小，適用于5萬倍以上的超高分辨率成像，是發(fā)表高水平論文的理想選擇。
浮動(dòng)式樣品臺(tái)——敏感樣品的“保護(hù)盾"
原理：使樣品與地電位隔離，極大減少了電子束轟擊和離子流對(duì)樣品的損傷。
受益場(chǎng)景：所有生物樣品、高分子材料、有機(jī)薄膜等。在沒有此功能的設(shè)備上，這些樣品容易出現(xiàn)收縮、開裂、起泡等現(xiàn)象。
磁控濺射技術(shù)——均勻細(xì)膩鍍層的“保障"
原理：利用磁場(chǎng)約束等離子體，實(shí)現(xiàn)在較低氣壓和電壓下進(jìn)行高速濺射，形成的金屬膜附著力強(qiáng)、顆粒細(xì)小且分布均勻。
受益場(chǎng)景：高倍率觀察時(shí)，均勻細(xì)膩的鍍層不會(huì)掩蓋樣品的真實(shí)納米結(jié)構(gòu)。
一體化緊湊設(shè)計(jì)——實(shí)驗(yàn)室空間的“優(yōu)化師"
價(jià)值：內(nèi)置真空泵，占地面積小，可放置于通風(fēng)櫥或工作臺(tái)角落，非常適合空間有限的教學(xué)實(shí)驗(yàn)室、共享平臺(tái)或繁忙的質(zhì)控實(shí)驗(yàn)室。
MSP-1S是一款出色的常規(guī)制樣工具，但在以下場(chǎng)景下可能需要考慮更專業(yè)的設(shè)備：
需求分辨率：若經(jīng)常需要進(jìn)行>10萬倍的觀測(cè)，或從事前沿納米材料研究，其鍍膜顆粒度可能仍顯不足，應(yīng)考慮高中端濺射儀或蒸發(fā)鍍膜機(jī)。
需要鍍特定功能膜：如需要濺射鎢（W）、鉻（Cr）等粘附層，或進(jìn)行反應(yīng)濺射，需選擇如MSP-20TK等多功能型號(hào)。
樣品數(shù)量極大：其樣品室尺寸適合中小批量樣品，對(duì)于工業(yè)生產(chǎn)中需要一次處理數(shù)十個(gè)樣品的情況，效率可能不足。
Shinkuu MSP-1S磁控濺射儀是連接樣品與高質(zhì)量SEM圖像的可靠橋梁。通過理解其在不同場(chǎng)景下的應(yīng)用方法，并靈活運(yùn)用其浮動(dòng)樣品臺(tái)和多種靶材的特性，用戶能夠?yàn)榻^大多數(shù)非導(dǎo)電樣品制備出理想的導(dǎo)電層，從而釋放掃描電鏡的全部成像潛力。
