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日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV
一liu的超低沖擊濕法微珠磨機，用于納米分散
在我們的產品線中，損傷分散小的珠磨機。針對“超低損傷納米顆粒分散體”進行了優(yōu)化的濕微珠磨機，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進行低沖擊攪拌的設備，這是一種先進的寬分離器三角磨機。
帶有新設計的平面攪拌器/珠分離轉子的濕珠磨機可實現低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時，對納米顆粒的損害小化。
另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉子設計使研磨機中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進行均勻的分散處理。
1.可以分散gao級別超低損傷納米顆粒的珠磨機！
珠磨機，即使使用軟顆?；蚣{米顆粒的漿液，也可以進行超低沖擊處理，并且可以進行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級鈦酸鋇和有機顏料，而傳統的珠磨機無法對其進行適當處理。
2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！
這是一種珠磨機，可以將由于顆粒破壞而產生的細小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動性和改善長期保存期間的產品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。
3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！
由于在珠磨機中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布。可以提高產品性能，并且可以在批量生產條件下復制產品設計時預期的產品性能。
可用磁珠直徑
Φ15μm?Φ0.3毫米
珠粒分離器圓周速度
6m /秒至18m / s
高粘度支撐
光學材料（氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體），導電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。
支持低損傷擴散
電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。
日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV
| 產品名稱 | 大綱 | 可用磁珠直徑 |
|---|---|---|
| 頂點磨 | 濕式研磨珠磨機 立式濕式研磨珠磨機，可有效處理微米至亞微米級的研磨 | φ0.3毫米?φ5毫米 |
| 超尖磨機 | *yi臺 微珠磨粉機納米珠磨粉機的標準模型， 可以使用小直徑為15μm的微珠 粉，它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機。 | φ15?1毫米 |
| 雙頂點磨 | 濕式微珠研磨機， 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散，特別是用于低損傷的納米顆粒分散 | φ15?1毫米 |
| 寬分離器 Apex Mill | 高流量高粘度珠磨機 濕式微珠磨機，與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容 | φ15?0.3毫米 |
| Ultra Apex Mill Advance | 超低損傷納米分散機 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機 | φ15?0.3毫米 |
| Apex Mill F＆M | 用于藥品，食品和化妝品的無 密封 珠磨機，適用于粉碎有機物質。珠磨機 省略了機械密封，以提高清潔性并防止污染， 尤其適用于納米級制藥 | φ0.1毫米?φ5毫米 |
